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RF強磁性薄膜インダクタにおけるパターン化磁性膜の配置とその高周波特性

RF強磁性薄膜インダクタにおけるパターン化磁性膜の配置とその高周波特性

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG05176

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2005/12/12

タイトル(英語): The relationship between the arrangement of patterning magnetic film and high frequency properties of ferromagnetic RF integrated inductors

著者名: 金基炫 (東北大学),山田 啓壽(東北大学),山口 正洋(東北大学)

著者名(英語): Ki HYSON Kim (Tohoku University),Keiju Yamada(Tohoku University),Masahiro Yamaguchi(Tohoku University)

キーワード: 磁性薄膜インダクタ|インダクタンス|FMR|LC共振|電界|磁界|再現性

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 914 Kバイト

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