低温ECRによるSiマイクロマシニングと磁性体の微細構造加工

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG05190

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　マグネティックス研究会

発行日: 2005/12/12

タイトル(英語): Si Micro Machining by Low Temperature ECR Plasma Etching for Micro Fabrication of Magnetic Materials

著者名: 大山 賢司(九州工業大学),竹澤 昌晃(九州工業大学),本田 崇(九州工業大学),森本 祐治(九州工業大学),山崎二郎 (九州工業大学)

著者名(英語): Kenji Oyama(Kyushu Institute of Technology),Masaaki Takezawa(Kyushu Institute of Technology),Takashi Honda(Kyushu Institute of Technology),Yuji Morimoto(Kyushu Institute of Technology),Jiro Yamasaki(Kyushu Institute of Technology)

キーワード: Siマイクロマシニング|ECRプラズマエッチング|低温|磁気繊毛

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,355 Kバイト