金属-絶縁物同時電析法による金属-絶縁物グラニュラ薄膜の作製　

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG06088

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　マグネティックス研究会

発行日: 2006/08/03

タイトル(英語): Fabrication of Metal-Insulator Granular Thin Film by Metal-Insulator Co-electrodeposition

著者名: 東條 陽介(奈良工業高等専門学校),西野 悟(奈良工業高等専門学校),藤田 直幸(奈良工業高等専門学校),伊崎 昌伸(大阪市立工業研究所),井上 光輝(豊橋技術科学大学)

著者名(英語): Yousuke Toujyo(Nara National College of Technology),Satoru Nishino(Nara National College of Technology),Naoyuki Fujita(Nara National College of Technology),Masanobu Izaki(Osaka Municipal Tech.Research Inst.),Mitsuteru Inoue(Toyohashi Univ.of Technology)

キーワード: 金属-絶縁物グラニュラ薄膜|金属-絶縁物同時電析法|軟磁気特性

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 891 Kバイト