CoFe膜の異方性磁界におけるRuおよびCu下地層の影響

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG07046

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　マグネティックス研究会

発行日: 2007/07/12

タイトル(英語): Effect of Cu and Ru Underlayer on Uniaxial Anisotropy of the CoFe Magnetic Thin Film

著者名: 宗像 誠(崇城大学),青木振一 (崇城大学),大越 正敏(九州工業大学),川崎 仁晴(佐世保高専),大島 多美子(佐世保高専),植松 卓彦(都立ナノテクセンタ)

著者名(英語): Makoto Munakata(Sojo Univ.),Shin-Ichi Aoqui(Sojo Univ.),Masatoshi Okoshi(Kyusyu Insttitute of techonology),Hiroharu Kawasaki(Sasebo National College of Technology),Ohshima Tamiko(Sasebo National College of Technology),Takuhiko Uematsu(Tokyo Metro. Indust. Tech. Res. Inst.)

キーワード: 二元RFマグネトロンスパッタ法|CoFe膜|高飽和磁化|異方性磁界|高共鳴周波数|Dual-RF magnetron sputtering|CoFe film|high saturation magnetization|large anisotropy field|higher frequency

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 632 Kバイト