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磁区構造モデルによる磁化過程シミュレーションに関する検討

磁区構造モデルによる磁化過程シミュレーションに関する検討

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG07055

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2007/07/13

タイトル(英語): A Study of Magnetization-Process Simulation Using Domain-Structure Model

著者名: 松尾 哲司(京都大学),三室 直紀(京都大学),島崎 眞昭(福井工業大学)

著者名(英語): Tetsuji Matsuo(Kyoto University),Naoki Mimuro(Kyoto University),Masaaki Shimasaki(Fukui University of Technology)

キーワード: 磁区構造モデル|マイクロマグネティクスシミュレーション|中間モデル|磁性体薄膜|domain structure model|micromagnetic simulation|mesoscopic model|magnetic thin film

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 444 Kバイト

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