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コンタクトエピによる石英基板上への磁気光学薄膜形成

コンタクトエピによる石英基板上への磁気光学薄膜形成

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG08091

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2008/07/31

タイトル(英語): Growth of Magnet-Optical Thin Film on Silica Glass Substrate Using Crystal Contact Epitaxy Method

著者名: 野毛 悟(沼津工業高等専門学校),宇野 武彦(神奈川工科大学),金 周映(豊橋技術科学大学),井上 光輝(豊橋技術科学大学)

著者名(英語): Satoru Noge(Numazu National College of Tech.),Takehiko Uno(Kanagawa Inst. of Tech.),Jooyoung Kim(Toyohashi University of Tech.),Mitsuteru Inoue(Toyohashi University of Tech.)

キーワード: 磁気光学効果|YIG|セリウム置換YIG|単結晶薄膜|エピタキシャル|熱処理|magneto-optic effect|YIG|cerium substituted YIG|single crystal film|epitaxial|thermal treatment

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 608 Kバイト

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