スパッタ粒子堆積シュミレーションによるCoFeB 膜の異方性磁界の検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG08199

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　マグネティックス研究会

発行日: 2008/12/19

タイトル(英語): An Examination of Uniaxial Anisotropy Field of the CoFeB Thin Film by a Simulation of Spattering Particle Deposition

著者名: 宗像 誠(崇城大学),今泉良一 (崇城大学),大越 正敏(九州工業大学),槙 孝一郎(住友金属鉱山)

著者名(英語): Makoto Munakata( Sojo Univ. ),Ryoichi Imaizum( Sojo Univ. ),Masatoshi Ohkoshi(Kyusyu Insttitute of Techonology),Kouchirou Maki(Sumitomo Metal Mine Co. ,Ltd.)

キーワード: ３元RF マグネトロンスパッタ法| CoFeB 膜，異方性磁界triple RF-magnetron spattering| CoFeB film| anisotropy field

要約(英語): (Co35Fe65 )Bmagnetic films with Ru underlayer were fabricated and characterized using a triple RF-magnetron spattering method.High velocity movement of the substrate brought that the Ru underlayer and B enhanced uniaxial anisotropy field with increasing e

原稿種別: 日本語

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