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AD法によるPZT膜の熱処理温度低温化の検討

AD法によるPZT膜の熱処理温度低温化の検討

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG09009

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2009/01/08

タイトル(英語): Low temperature annealing of PZT films by aerosol deposition

著者名: 藤沢友弘 (FDK),鈴木洋一 (FDK),河合博貴 (FDK),梅澤浩光 (FDK),井上光輝 (豊橋技術科学大学)

著者名(英語): T.Fujisawa (FDK Corporation),Y.Suzuki (FDK Corporation),H.kawai (FDK Corporation),H.Umezawa (FDK Corporation),M.Inoue (TOYOHASHI University of Technology)

キーワード: エアロゾルデポジション法|磁気光学空間光変調器|エキシマレーザ|PZT|Aerosol Deposition Method|MOSLM|Excimer Laser|PZT

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 622 Kバイト

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