AFMスクラッチ･リソグラフィによる磁性デバイスの作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG09073

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　マグネティックス研究会

発行日: 2009/08/05

タイトル(英語): Fabrication of Magnetic Device using AFM Scratch Lithography

著者名: 岩田 大輔(横浜国立大学),チャン･キョンミン (横浜国立大学),菅沼 秀教(横浜国立大学),山田 努(横浜国立大学),竹村 泰司(横浜国立大学)

著者名(英語): Daisuke Iwata(Yokohama National University),Kyungmin Jang(Yokohama National University),Hidenori Suganuma(Yokohama National University),Tsutomu Yamada(Yokohama National University),Yasushi Takemura(Yokohama National University)

キーワード: 原子間力顕微鏡|強磁性薄膜|ナノリソグラフィ|ナノ接合|Atomic force microscope|ferromagnetic thin film|nanolithography|nano-junction

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 854 Kバイト