カルーセルスパッタ法で作製したCoFeB膜におけるスパッタ粒子の異方性入射効果

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG09077

グループ名: 【A】基礎･材料･共通部門　マグネティックス研究会

発行日: 2009/08/07

タイトル(英語): The anisotropically incident effect of sputtering particle on CoFeB film in the carousel sputtering method

著者名: 今泉 良一(崇城大学),田原 誠(崇城大学),宗像 誠(崇城大学),大越 正敏(九州工業大学),槙 孝一郎(住友金属鉱山),青木振一 (崇城大学)

著者名(英語): Ryoichi Imaizumi(Sojo Univ.),Makoto Tabaru(Sojo Univ.),Makoto Munakata(Sojo Univ.),Masatoshi Ohkoshi(Kyushu Institute of Technology),Kouichirou Maki(Sumitomo Metal Mine Co.,Ltd.),Shin-ichi Aoqui(Sojo Univ.)

キーワード: 3元RFマグネトロンスパッタ法|CoFeB膜|異方性磁界|triple RF-magnetron spattering|CoFeB film|anisotropy field

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,069 Kバイト