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CoFeSiOグラニュラー積層磁性薄膜を用いたRFインダクタの試作と評価

CoFeSiOグラニュラー積層磁性薄膜を用いたRFインダクタの試作と評価

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG09080

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2009/08/07

タイトル(英語): Fabrication of RF Inductor using CoFeSiO Granular Multilayer Magnetic Thin Film

著者名: 池田 賢司(太陽誘電,信州大学),丸山 誠礼(信州大学),峯村 知剛(信州大学),橋本 篤典(信州大学),曽根原 誠(信州大学),佐藤敏郎 (信州大学),山沢清人 (信州大学),三浦 義正(信州大学),鈴木 利昌(太陽誘電)

著者名(英語): Kenji Ikeda(Taiyo Yuden Co.),Takayuki Maruyama(Shinshu University),Tomotake Minemura(Shinshu University),Atsunori Hashimoto(Shinshu University),Makoto Sonehara(Shinshu University),Toshiro Sato(Shinshu University),Kiyohito Yamasawa(Shinshu University),Yoshimasa Miura(Shinshu University),Toshimasa Suzuki(Taiyo Yuden Co.)

キーワード: 携帯電話|無線LAN|高周波回路|CSP|RF-IC|集積化インダクタ|CoFeSiOグラニュラー磁性膜|強磁性共鳴|共鳴吸収線幅|cellular phone|wireless LAN|high frequency circuit|CSP|RF-IC|integrated inductor|CoFeSiO granular magnetic film|ferromagnetic resonance|ferromagnetic resonance linewidth

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,010 Kバイト

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