カルーセルスパッタ法における異方性入射粒子の堆積と配列に及ぼす下地層の影響

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG10210

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2010/12/17

タイトル(英語): Effect of Underlayer on the Deposition and Arrangement of Anisotropically Incident particles in the Carrousel Sputtering Method

著者名: 今泉 良一(崇城大学),宗像 誠(崇城大学),大越 正敏(九州工業大学),槙 孝一郎(住友金属鉱山)

著者名(英語): Imaizumi Ryoichi(Sojo University),Munakata Makoto(Sojo University),Ohkoshi Masatoshi(Kyushu Institute of Technology),Maki Kouichirou(Sumitomo Metal Mine Co. ,Ltd.)

キーワード: カルーセルスパッタ法|異方性入射効果|下地層効果|carrousel sputtering|anisotropic incidence|Effect of Underlayer

要約(日本語): これまで著者らは，カルーセルスパッタ法で作製した高周波用軟磁性薄膜が下地層効果によってより大きく，異方性分散の少ない一軸異方性磁界を発現させることを実験的に発見し，報告している．それと連動してスパッタ粒子の入射シミュレーションを行い，スパッタ粒子の異方性入射機構について報告してきた．本研究では，カルーセルスパッタ法における異方性入射粒子の堆積と配列に及ぼす下地層の影響について検討したので報告する．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,386 Kバイト