金属－酸化物同時無電解析出法によるCo-Ce-O薄膜の作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG11034

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2011/08/03

タイトル(英語): Fabrication of Co-Ce-O Films by The Metal-Oxide Co-electroless Deposition Method

著者名: 福井 斉(奈良工業高等専門学校),平井 誠(奈良工業高等専門学校),北川 大輔(奈良工業高等専門学校),笹野 順司(豊橋技術科学大学),伊崎 昌伸(豊橋技術科学大学),井上 光輝(豊橋技術科学大学),千金 正也(大阪市立工業研究所),藤田 直幸(奈良工業高等専門学校)

著者名(英語): Fukui Hitoshi(Nara National College of Technology),Hirai Makoto(Nara National College of Technology),Kitagawa Daisuke(Nara National College of Technology),Sasano Junji(Toyohashi University of Technology),Izaki Masanobu(Toyohashi University of Technology),Inoue Mitsuteru(Toyohashi University of Technology),Chigane Masaya(Osaka Municipal Technical Research Institute),Fujita Naoyuki(Nara National College of Technology)

キーワード: Ｃｏ－Ｃｅ－Ｏ薄膜|金属－酸化物同時無電解析出法|電位－ｐＨ図|金属－酸化物グラニュラ薄膜|Co-Ce-O films|metal-oxide co-electroless deposition|potential-pH diagram|metal-oxide granular film

要約(日本語): 我々の研究室では、金属－酸化物同時電析法という独自のウエットプロセスにより、金属－酸化物系グラニュラ薄膜の作製を目指しており、これまでにCo-Ce-O薄膜の作製に成功している。しかし、電析法では外部電源から電子を供給し成膜するため、非導電性基板に成膜が出来ないなどの欠点がある。そこで、本研究では、“金属－酸化物同時無電解析出法”という新規な手法により、金属－酸化物コンポジット薄膜の作製及び磁気特性を評価した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 55,647 Kバイト