イオン照射によるMnGaビットパターン媒体の作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG13065

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2013/07/09

タイトル(英語): Fabrication of MnGa bit patterned media by ion irradiation

著者名: 大島 大輝(名古屋大学),加藤 剛志(名古屋大学),岩田 聡(名古屋大学),綱島 滋(名古屋産業科学研究所)

著者名(英語): Daiki Oshima(Nagoya University),Takeshi Kato(Nagoya University),Satoshi Iwata(Nagoya University),Shigeru Tsunashima(Nagoya Industrial Science Research Institute)

キーワード: ビットパターン媒体|ＭｎＧａ|イオン照射|規則合金|Bit patterned media|MnGa|Ion irradiation|Ordered alloy

要約(日本語): Cr/MgO基板上に(001)配向させたL10-MnGa薄膜に対しKrイオン照射を行ったところ，MnGaは非常に少ない照射量でL10相からA1相へと変化し非磁性化することがわかった．そこで，MnGaビットパターン構造を作製すると微小なパターンにおいても明瞭な磁気パターンが観察された．このことから，MnGaを用いたイオン照射型の超高密度ビットパターン媒体が作製できる可能性があると考えられる．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,164 Kバイト