超高電気抵抗率を有するフッ化物系ナノグラニュラー強磁性薄膜
超高電気抵抗率を有するフッ化物系ナノグラニュラー強磁性薄膜
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: MAG13068
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会
発行日: 2013/08/07
タイトル(英語): Ferromagnetic fluoride-based nano granular films with super high electrical resistivity
著者名: 小林 伸聖(電磁材料研究所),直江 正幸(電磁材料研究所),岩佐 忠義(電磁材料研究所),石田 今朝男(電磁材料研究所),増本 博(東北大学)
著者名(英語): Kobayashi Nobukiyo(Research Institute for Electomagnetic Materials),Naoe Masayuki(Research Institute for Electomagnetic Materials),Iwasa Tadayoshi(Research Institute for Electomagnetic Materials),Ishida Kesao(Research Institute for Electomagnetic Materials),Masumoto Hiroshi(Frontier Research Institute for Interdisciplinary Sciences,Tohoku University)
キーワード: 電気抵抗率|強磁性|高周波|軟磁性|薄膜|electric resistivity|ferromagnetic|high frequency|soft magnetic propaty|thin film
要約(日本語): 絶縁体にフッ化物を用いたナノグラニュラー磁性膜は、超高電気抵抗率を示す。本研究ではFeCo-CaF膜に関し、1×10^4μΩm以上の電気抵抗率を示す組成域で0.8T以上の大きな磁化を有し、磁気異方性を示す強磁性薄膜を得た。これらの膜は、その高電気抵抗により渦電流損が低減するため、酸化物系などの従来高周波薄膜材料(~1×10^1μΩm)をはるかに超える高周波領域での応用が期待される。
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 766 Kバイト
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