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局所イオン照射による磁性膜の磁気ナノパターン形成

局所イオン照射による磁性膜の磁気ナノパターン形成

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG13074

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2013/08/07

タイトル(英語): Magnetic nano-patterning of magnetic films by local ion irradiation

著者名: 加藤 剛志(名古屋大学),大島 大輝(名古屋大学),谷本 昌大(名古屋大学),岩田 聡(名古屋大学)

著者名(英語): Kato Takeshi(Nagoya University),Oshima Daiki(Nagoya University),Tanimoto Masahiro(Nagoya University),Iwata Satoshi(Nagoya University)

要約(日本語): Mn系,Cr系合金では微量のイオン照射により強磁性から非磁性へ変化させられる材料がある.本報告ではこれらの材料のイオン照射による磁性制御,およびそのメカニズムについて議論する.また,これを利用し,材料を物理的に削ることなくナノスケールの微細磁気構造の形成できること,作成したナノ磁気構造の磁気特性について,現在までに得られている結果をまとめる.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,157 Kバイト

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