金属－酸化物同時無電解析出法によるCo-Ce-O薄膜のポリイミド基板への成膜

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG13081

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2013/08/08

タイトル(英語): Fabrication of Co-Ce-O Films on Polyimide film by the Metal-Oxide Co-electroless Deposition Method

著者名: 西村 佳那子(奈良工業高等専門学校),品川 勉(大阪市立工業研究所),池田 慎吾(大阪市立工業研究所),松原 浩(長岡技術科学大学),薮上 信(東北学院大学),藤田 直幸(奈良工業高等専門学校)

著者名(英語): Nishimura Kanako(Nara National College of Technology),Shinagawa Tsutomu( Osaka Municipal Technical Research Institute),Ikeda Shingo( Osaka Municipal Technical Research Institute),Matsubara Hiroshi(Nagaoka University of Technology),Yabukami Shin(Tohoku Gakuin University),Fujita Naoyuki(Nara National College of Technology)

キーワード: ポリイミド|Ｃｏ－Ｃｅ－Ｏ薄膜|金属－酸化物グラニュラ薄膜|金属－酸化物同時無電解析出法|Polyimide|Co-Ce-O films|metal-oxide granular film|metal-oxide co-electroless deposition

要約(日本語): 電磁波吸収材料などへの応用を目指して、Co-Ce-O薄膜を化学的な手法によりポリイミド基板へ作製することを試みた。Pd-Sn系コロイドによる前処理で自己触媒性を付与したポリイミド基板を、還元剤のDMAB、硫酸コバルト、塩化セリウム、グリシンを含む溶液に浸漬させるという簡単な方法でCo-Ce-Oを成膜することができた。溶液組成により膜中のCo濃度を12 ～58 vol.%の範囲で制御することができ、磁気共鳴周波数が200MHz付近にあることが分かった。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 789 Kバイト