高い強磁性共鳴周波数を有するFeCoB膜の異方的内部応力のin-situ観測

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG13123

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2013/12/11

タイトル(英語): In-situ observation of anisotropic stress in FeCoB films with high ferromagnetic resonance frequency

著者名: 中川 茂樹(東京工業大学),林原 久憲(東京工業大学),饒平名 礼生(東京工業大学)

著者名(英語): Nakagawa Shigeki(Tokyo Institute of Technology),Hayashibara Hisanori(Tokyo Institute of Technology),Yohena Reo(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 強磁性共鳴周波数|異方性磁界|ＦｅＣｏＢ|対向ターゲット式スパッタ法|異方性残留応力|その場観測|ferromagnetic resonance frequency|anisotropy field|FeCoB|Facing Targets Sputtering|anisotropic residual stress|in-situ observation of stress

要約(日本語): 対向ターゲット式スパッタ(FTS)法を用いて，Ru下地層上に作製したFeCoB膜が500 Oe程度の高い異方性磁界を持ち高い強磁性共鳴周波数を示す。この一軸磁気異方性は、成膜中に膜面内に蓄積されていく異方的な残留応力に基づく逆磁歪効果を介した磁気異方性エネルギーが主因と考えられる。そこでFeCoB膜における応力の発現機構の解明をスパッタ堆積中の応力変化をin-situ 観測を用いることで試みた。

要約(英語): Ru/FeCoB films prepared using facing targets sputtering (FTS) method showed a high in-plane anisotropy field Hk of 500 Oe as well as high Ms of 22 kG. The film has a high ferromagnetic resonance frequency fr of 9.2 GHz. An origin of the high Hk is considered as an inverse magnetostrictive anisotropic energy resulted in from anisotropic internal stress owing developed during the deposition of the film in FTS method. The stress was formed during sputtering. We performed in-situ observation of developing internal stress in FeCoB layer, and discussed relation to magnetic anisotropy.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 2,217 Kバイト