対向ターゲット式スパッタ法とその磁性薄膜作製への応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG13127

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2013/12/11

タイトル(英語): Facing Target Sputtering method and its application for the deposition of magnetic thin films

著者名: 星 陽一(東京工芸大学)

著者名(英語): Hoshi Yoichi(Tokyo Polytechnic University)

キーワード: 対向ターゲット式スパッタ|磁性膜|高速スパッタ|低ダメージスパッタ|Facing Target Sputtering|Magnetic films|high rate sputtering|low damage sputtering

要約(日本語): 著者が磁性材料の高速スパッタ法を実現するために開発した対向ターゲット式スパッタ法の特徴を説明するとともに、有機薄膜上への堆積や多層膜の界面制御のために重要となる低ダメージスパッタ成膜法として有効であることを示す。

要約(英語): Histry of the developemnt of Facing Target high rate sputtering method will be explained for the high rate deposition of magnetic thin films, and it will be shown that low damage sputter-deposition process used this FTS method is useful for the deposition of the films on organic materials and mltilayer films with good interfaces.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 960 Kバイト