パターン化Fe-Si/Ru 形状磁気異方性膜の磁区構造

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG13160

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2013/12/19

タイトル(英語): Magnetic domain structure of patterned Fe-Si/Ru thin film with shape magnetic anisotropy .

著者名: 森崎 裕基(信州大学),柄澤 大樹(信州大学),曽根原 誠(信州大学),佐藤 敏郎(信州大学),高木 宏幸(豊橋技術科学大学大学院),井上 光輝(豊橋技術科学大学大学院)

著者名(英語): Morisaki Hiroki(Shinshu University),Karasawa Daiki(Shinshu University),Sonehara Makoto(Shinshu University),Satou Toshirou(Shinshu University),Takagi Hiroyuki(Toyohashi University of Technology),Inoue Mitsuteru(Toyohashi University of Technology)

キーワード: スリットパターン化磁性膜|形状磁気異方性|反磁界|磁区観察|強磁性共鳴周波数|Slit-patterned magnetic film|magnetic shape anisotropy|demagnetizing field|magnetic domain observation|ferromagnetic resonance frequency

要約(日本語): 強磁性体であるFeにSiを添加したFe-Si及びFe-Siの保磁力の減少や平坦化を行うRuを用いた薄膜に形状磁気異方性を誘導させる形状を施し，周囲の磁場に対する磁区観察を行った．通常，強磁性体は複数の磁区をもつ多磁区構造をとるが，形状を施すこと，磁気特性を制御することで単磁区構造をもつ薄膜を作製することができた．本論では，作製したFe-Si/Ru薄膜の形状・寸法及び磁気特性から磁区構造に結び付け論じる．

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 965 Kバイト