pH緩衝溶液を用いたフェライト薄膜の作製と高周波特性

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG14111

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2014/08/07

タイトル(英語): Preparation of Ferrite Films Using pH buffering solution and High Frequency Property

著者名: 渡邉 哲朗(東京工業大学),勝又 健一(東京工業大学),岡田 清(東京工業大学),松下 伸広(東京工業大学)

著者名(英語): Watanabe Tetsuro(Tokyo Institute of Technology),Katsumata Ken-ichi(Tokyo Institute of Technology),Okada Kiyoshi(Tokyo Institute of Technology),Matsushita Nobuhiro(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 溶液プロセス|フェライト膜|軟磁気特性|元素置換|緩衝剤|Solution process|Ferrite film|Soft magnetic property|Element substitution|Buffering agent

要約(日本語): スピンスプレー法は、結晶化したスピネルフェライト薄膜を高圧条件や熱処理を必要とせずに作製可能な水溶液プロセスである。本発表では溶液中のpH条件を緩衝剤(HEPES)を用いることで反応場制御を厳密に行いマグネタイト薄膜および、任意の組成となる他元素置換フェライト薄膜の作製を行った。作製した薄膜はXRD、SEM、ICP測定による同定、元素分析を行い、VSM、インピーダンスアナライザ測定による軟磁気、透磁率特性評価を行った。

要約(英語): Magnetite and Zn substituted spinel ferrite films were deposited by spin-spray ferrite plating using pH buffering agent. Preparation conditions were controlled by HEPES, and the deposited magnetite films exhibited the largest saturation magnetization of 430 emu/cm3. Zn0.35Fe2.65O4 film exhibited real permeability μ‘ = 23 and resonance frequency　fr of 600 MHz.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,728 Kバイト