Ｓｉ基板上に成膜した等方性Ｎｄ-Ｆｅ-Ｂ系厚膜磁石の特性と切削加工

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG14128

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2014/08/05

タイトル(英語): Properties of isotropic Nd-Fe-B thick-film magnets deposited on Si substrates and their machining

著者名: 山下 昂洋(長崎大学),押領司 学(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),藤井 泰久(KRI),松本 信子(KRI),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Yamashita Akihiro(Nagasaki Univ.),Oryoshi Manabu(Nagasaki Univ.),Yanai Takeshi(Nagasaki Univ.),Nakano Masaki(Nagasaki Univ.),Fujii Yasuhisa(KRI corp.),Matsumoto Nobuko(KRI corp.),Fukunaga Hirotoshi(Nagasaki Univ.)

キーワード: ＰＬＤ（Ｐｕｌｓｅｄ　Ｌａｓｅｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法|Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ|シリコン基板|ダイシング|等方性|厚膜磁石|PLD(Pulsed Laser Deposition)|Nd-Fe-B|Si substrates|Dicing|isotropic|thick film magnets

要約(日本語): 我々は，PLD法を用い，数10 μm/h以上の成膜速度下で100 μm厚以上の等方性Nd-Fe-B系厚膜磁石をFeやTa等の金属基板上に成膜し，ミリサイズモータや摩擦駆動型モータに応用してきた。本研究では，MEMS応用を鑑み，バッファー層を施すことなく，Si基板上に直接成膜した10 ～100 m厚のNd-Fe-B系厚膜磁石の磁気特性ならびに機械的特性と、得られた試料に対するダイシング加工を施した結果を述べる。

要約(英語): Last year, we reported the preparation of isotropic Nd-Fe-B thick-film magnets on Si substrates with a Ta buffer layer in this meeting. The samples, however, were broken after a dicing process due to the hardness of Ta. This contribution reports an increase in Nd contents of the samples enables us to increase the thickness up to 100 μm without a buffer layer. Resultantly, we succeeded in dicing the above-mentioned Nd-Fe-B films deposited on each Si substrate.

原稿種別: 日本語

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