イオン照射型ビットパターン媒体のためのMnGa(001)配向膜の作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG14199

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2014/12/12

タイトル(英語): Fabrication of (001) oriented MnGa films for ion irradiation bit patterned media

著者名: 根来 翼(名古屋大学),松永 隆雅(名古屋大学),大島 大輝(名古屋大学),加藤 剛志(名古屋大学),岩田 聡(名古屋大学),綱島 滋(名古屋産業科学研究所)

著者名(英語): Negoro Tsubasa(Nagoya University),Matsunaga Takamasa(Nagoya University),Oshima Daiki(Nagoya University),Kato Takeshi(Nagoya University),Iwata Satoshi(Nagoya University),Tsunashima Shigeru(Nagoya Industrial Sience Research Institute)

キーワード: ビットパターン媒体|イオン照射|ＭｎＧａ|（００１）配向|Bit patterned media|Ion irradiation|MnGa|(001) orientation

要約(日本語): MgO(001)基板上のMnGa(001)膜に局所的にKr+イオンを照射することで表面平坦性に優れるビットパターン膜が得られる．本研究では熱酸化膜付きのSi基板上にCoFeB，NiTa等のバッファ層を堆積することで垂直磁気異方性を有する(001)配向のMnGa膜が得られることを報告する．

要約(英語): Planer bit patterned MnGa films are obtained by local Kr+ ion irradiation onto MnGa(001) film grown on MgO(001) substrate. This study reports that (001) oriented MnGa films with perpendicular magnetic anisotropy were obtained by depositing CoFeB or NiTa buffer layer on thermally oxidized Si substrates.

原稿種別: 日本語

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