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高品質なNd2Fe14B薄膜の作成条件及びドット加工による影響の評価

高品質なNd2Fe14B薄膜の作成条件及びドット加工による影響の評価

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カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG14200

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2014/12/12

タイトル(英語): Investigation on Nd-Fe-B Thin Films Fabrication Process and Evaluation of Nanodot Micorfabrication Process

著者名: 東 佑(東北大学),岡本 聡(東方大学),後藤 龍太(東北大学),菊池 伸明(東北大学),北上 修(東北大学),門ノ沢 和也(東北大学)

著者名(英語): AZUMA Yu(TOHOKU UNIVERSITY),OKAMOTO Satoshi(TOHOKU UNIVERSITY),GOTO Ryota(TOHOKU UNIVERSITY),KIKUCHI Nobuaki(TOHOKU UNIVERSITY),KITAKAMI Osamu(TOHOKU UNIVERSITY),KADONOSAWA KAZUYA(TOHOKU UNIVERSITY)

キーワード: Nd2Fe14B|薄膜|微細加工|保磁力|磁化反転|Nd2Fe14B|thin films|microfabrication|coercivity|magnetization reversal

要約(日本語): Nd-Fe-B系磁石の保磁力機構の評価を目的として,薄膜試料の作製,ドット加工,パルス磁場による挙動評価を目的として研究を進めている.本発表では,3元同時マグネトロンスパッタ法を用いた高品質なNd2Fe14B薄膜の作製条件,及びそのドット加工が試料に及ぼす影響を検討した。作製したNd-Fe-B薄膜は基板面直方向にc軸配向しており,ドット加工による磁気特性の劣化は検出感度の範囲内では見られなかった.

要約(英語): To elucidate the coercivity mechanism of Nd-Fe-B magnet, a single nanodot experiment is planned. In this talk, we will explain the Nd-Fe-B thin films fabrication process using co-sputtering technique and nanodot micorfabrication process are explained. The Nd-Fe-B films exhibit well defined c-axis orientation, and the magnetization curves are almost unchanged before and after the microfabrication process, indicating that process damage on the dot is negligible,

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 875 Kバイト

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