タンデム法で作製したナノグラニュラー軟磁性膜の面内一軸異方性と結晶配向およびナノ組織との関係

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG14235

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2014/12/26

タイトル(英語): In-Plane Uniaxial Anisotropy Depending on Crystalline Orientation and Texture of Nanogranular Soft Magnetic Films Prepared by Tandem-Sputtering Deposition

著者名: 直江 正幸(電磁材料研究所),小林 伸聖(電磁材料研究所),大沼 繁弘(電磁材料研究所),渡邉 雅人(電磁材料研究所),飯塚 昭光(電磁材料研究所),岩佐 忠義(電磁材料研究所),増本 博(東北大学),山上 朋彦(信州大学),橋本 佳男(信州大学)

著者名(英語): Naoe Masayuki(Research Institute for Electromagnetic Materials),Kobayashi Nobukiyo(Research Institute for Electromagnetic Materials),Ohnuma Shigehiro(Research Institute for Electromagnetic Materials),Watanabe Masato(Research Institute for Electromagnetic Materials),Iizuka Akimitsu(Research Institute for Electromagnetic Materials),Iwasa Tadayoshi(Research Institute for Electromagnetic Materials),Masumoto Hiroshi(Tohoku University),Yamakami Tomohiko(Shinshu University),Hashimoto Yoshio(Shinshu University)

キーワード: ナノグラニュラー膜|一軸異方性|異方性分散|高周波透磁率|結晶配向|ナノテクスチャ|Nanogranular films|Uniaxial anisotropy|Anisotropy dispersion|High-frequency permeability|Crystalline orientation|Nanotexture

要約(日本語): 基板公転を伴うタンデム法で作製したナノグラニュラー軟磁性膜は，従来膜と比較すると極めて強い面内一軸異方性を示す．さらには，異方性を付与するための外部磁界源を設けなくとも基板回転のみで異方性が付与され，異方性分散は半分以下に低減される．膜の結晶性をX線極点図解析，およびナノ構造をTEMおよびSTEMで測定・観察し，磁気特性と照らし合わせることによって，異方性およびその分散の要因を見出した．

要約(英語): Tandem-sputtering deposition demonstrates strong in-plane uniaxial anisotropy of the nanogranular soft magnetic films. Their anisotropy is obtained only by substrate motion of this method. The authors remarked nanotexture of the crystalline granules, and succeeded in developing advanced results on the relations with in-plane anisotropy.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 8,162 Kバイト