PLD法を用い作製したSi基板上Fe-Co系磁性膜の諸特性に関する検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG15061

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2015/07/16

タイトル(英語): Various properties of PLD-fabricated Fe-Co films deposited on Si substrates

著者名: 山下 昂洋(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Akihiro Yamashita(Nagasaki Univ.),Takeshi Yanai(Nagasaki Univ.),Masaki Nakano(Nagasaki Univ.),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki Univ.)

キーワード: ＰＬＤ　（Ｐｕｌｓｅｄ　Ｌａｓｅｒ　Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）　法|Ｆｅ－Ｃｏ|シリコン基板|ＤＦ（Ｄｅｆｏｃｕｓ）　ｒａｔｅ|PLD (Pulsed Laser Deposition) method|Fe-Co|Si substrates|DF rate

要約(日本語): 本報告では，PLD法において，Fe65Co35ターゲットに照射するレーザビームのスポット径を変化させ、Fe-Co膜を成膜した際の表面形態，組成，磁気特性ならびに機械的特性等を評価した。具体的には，スポット径を著しく低下させた際（Defocus rate=0），成膜速度は減少するものの，ドロップレットの数や大きさの低減，すなわち表面平滑性が向上することを明らかにした。更に，得られた試料の最大磁化が2.2 Tを超える事も確認した。

要約(英語): In the report, an investigation on various properties of Fe-Co films by using a PLD (Pulsed Laser Deposition) method with several diameters of a laser beam was carried out. It was clarified that the usage of a Fe65Co35 target together with a small spot size of laser beam (Defocus rate = 0) enabled us to reduce the number and/or size of droplets and obtain a Fe-Co film with the maximum magnetization above 2.2 T.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,361 Kバイト