高配向Nd-Fe-B薄膜の作製
高配向Nd-Fe-B薄膜の作製
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: MAG15079
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会
発行日: 2015/08/04
タイトル(英語): Fabrication of highly-oriented Nd2Fe14B thin films
著者名: 東 佑(東北大学),岡本 聡(東北大学),菊池 伸明(東北大学),北上 修(東北大学)
著者名(英語): Yu Azuma(Tohoku University),Satoshi Okamoto(Tohoku University),nobuaki Kikuchi(Tohoku University),Osamu Kitakami(Tohoku University)
キーワード: Nd2Fe14B|保磁力|磁化反転|薄膜|Nd2Fe14B|coercivity|magnetization reversal|thin films
要約(日本語): Nd-Fe-B系磁石の保磁力機構の評価には,粒子のサイズや形状等の制御したモデル実験を行うことが望ましい.本研究では,3元同時マグネトロンスパッタ法を用いた高品質なNd2Fe14B薄膜の作製条件を検討した.下地材料,組成,基板温度を制御した結果,Wを下地層として作製したNd-Fe-B薄膜は良好なc軸配向性を示し,1ミクロン程度のテラス状の粒子形状を有していることがわかった.
要約(英語): To study the magnetization reversal process of Nd-Fe-B magnet, it is essential to use a sample with high crystalline quality and well-c-axis orientation. In this study, we have fabricated the Nd-Fe-B thin films by using co-sputtering technique. By tuning deposition conditions, the Nd-Fe-B films grown on W underlayer exhibit very high c-axis orientation and large terrace-like faceted grain growth.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,475 Kバイト
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