Si基板上に成膜したNd-Fe-B系磁石膜の厚膜化と諸特性
Si基板上に成膜したNd-Fe-B系磁石膜の厚膜化と諸特性
カテゴリ: 研究会(論文単位)
論文No: MAG15082
グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会
発行日: 2015/08/05
タイトル(英語): Increase in thickness of Nd-Fe-B film magnets deposited on Si substrates together with the properties of the samples
著者名: 竹馬 雄(長崎大学大学院),山下 昂洋(長崎大学大学院),柳井 武志(長崎大学大学院),中野 正基(長崎大学大学院),藤原 良元(東京工業大学精密工学研究所),進士 忠彦(東京工業大学精密工学研究所),福永 博俊(長崎大学大学院)
著者名(英語): Yu Chikuba(Graduate school of Engineering, Nagasaki University),Akihiro Yamashita(Graduate school of Engineering, Nagasaki University),Takeshi Yanai(Graduate school of Engineering, Nagasaki University),Masaki Nakano(Graduate school of Engineering, Nagasaki University),Ryogen Fujiwara(Precision and Intelligence Laboratory, Tokyo Institute of Technology),Tadahiko Shinshi(Precision and Intelligence Laboratory, Tokyo Institute of Technology),Hirotoshi Fukunaga(Graduate school of Engineering, Nagasaki University)
キーワード: ネオジム磁石|磁石膜|シリコン基板|PLD法|MEMS|Nd-Fe-B|film magnet|Si substrate|PLD (Pulsed Laser Deposition)|MEMS(Micro Electro Mechanical System)
要約(日本語): 我々はこれまで様々な電子デバイスへの応用を目指し、FeやTaなどの金属基板上へNd-Fe-B系磁石膜による成膜を報告してきた。本稿では、MEMSへの応用を鑑み、Si基板への等方性Nd-Fe-B系厚膜磁石の成膜を試み,100 μm以上の厚膜化を実現できる事を報告する。加えて、その試料の磁気特性や機械特性について評価した結果を示す。
要約(英語): We have already reported the Nd-Fe-B films were deposited on various metal substrates such as a Ta and Fe ones by using a PLD method and applied them to several electronic devices. In this report, we prepared Nd-Fe-B thick-films on Si substrate and could increase the thickness above 100 μm on a Si substrate. Furthermore, an evaluation of the magnetic properties and mechanical properties of the samples was carried out.
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 1,407 Kバイト
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