溶液プロセスにより作製するフェライト薄膜にpH緩衝剤が与える影響

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG15172

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2015/11/27

タイトル(英語): Influence of pH buffer on magnetic properties of ferrite film fabricated by solution process

著者名: 田中 優志(東京工業大学),清野 裕斗(東京工業大学),渡邉 哲朗(東京工業大学),勝又 健一(東京理科大学),松下 伸広(東京工業大学)

著者名(英語): Yuji Tanaka(Tokyo Institute of Technology),Yuto Seino(Tokyo Institute of Technology),Tetsuro Watanabe(Tokyo Institute of Technology),Ken-ichi Katsumata(Tokyo University of Science),Nobuhiro Matsushita(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 溶液プロセス|フェライト|軟磁性材料|元素置換|緩衝剤|薄膜|Solution process|Ferrite film|Soft magnetic property|Element substitution|pH buffer

要約(日本語): スピンスプレー法は真空排気設備や高温を必要としない簡便かつ安価な装置であるにも拘らず、良質なフェライト薄膜を作成できる。当研究室ではpH緩衝剤HEPESを用いて反応場のpHを制御することで、フェライト膜の組成を容易に制御しつつ安定して製膜することに成功した。本研究では緩衝能と組成の異なる複数のpH緩衝剤を用い、緩衝剤がフェライト膜の磁気特性及び組成制御ならびに成膜速度に与える影響を検討した。

要約(英語): Ferrite thin films were deposited by spin-spray method uging pH buffer. Various pH buffers including inorganic pH buffer were used for pH buffer in this study. The influence of pH buffer on magnetic properties, chemical composition and deposition speed of ferrite film were studied.

原稿種別: 日本語

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