MnGa膜を用いたイオン照射型ビットパターン媒体の高密度化の検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG16108

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2016/08/10

タイトル(英語): Study of high-density ion-irradiated bit patterned media using MnGa alloy films

著者名: 大島 大輝(名古屋大学),福田 憲吾(名古屋大学),加藤 剛志(名古屋大学),岩田 聡(名古屋大学)

著者名(英語): Daiki Oshima(Nagoya University),Kengo Fukuta(Nagoya University),Takeshi Kato(Nagoya University),Satoshi Iwata(Nagoya University)

キーワード: ビットパターン媒体|イオン照射|ＭｎＧａ|Bit Patterned Media|Ion irradiation|MnGa

要約(日本語): 我々はMnGa膜を用いたイオン照射型のビットパターン媒体の研究を行ってきた．今回，イオン照射したMnGa膜の低温における磁気特性を測定することにより，イオン照射したMnGa膜は非磁性化したA1-MnGaマトリクス中に強磁性L10-MnGa微結晶が分散しており，その2つの相の境界が非常にシャープであることを示唆する結果を得た．また，照射イオンの低エネルギー化により，さらなる微細パターンの作製に取り組んだ．

要約(英語): We have reported ion-irradiated bit patterned media using MnGa alloy films. In this study, we measured temperature dependence of magnetic properties of ion-irradiated MnGa films, from which the ion-irradiated MnGa films are expected to have the composite structure of ferromagnetic L10-MnGa nanocrystals separated with nonmagnetic A1-MnGa matrices. We also tried to fabricate fine magnetic bit pattern by reducing the energy of irradiated ions.

原稿種別: 日本語

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