溶液プロセスで作製したフェライトの高周波磁気応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG16232

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2016/12/08

タイトル(英語): High Frequency Application of Solution Processed Ferrite

著者名: 松下 伸広(東京工業大学),矢野 哲司(東京工業大学),岡田 清(東京工業大学),吉村 昌弘(東京工業大学/国立成功大学(台湾)),阿部 正紀(東京工業大学)

著者名(英語): Nobuhiro Matsushita(Tokyo Institute of Technology),Tetsushi Yano(Tokyo Institute of Technology),Kiyoshi Okada(Tokyo Institute of Technology),Masahiro Yoshimura(Tokyo Institute of Technology/National Cheng Kung University(Taiwan)),Masnori Abe(Tokyo Institute of Technology)

キーワード: 溶液プロセス|フェライト膜|フェライト粒子|高周波磁気応用|Solution Process|Ferrite Film|Ferrite Particle|Magnetic Application at High Frequency

要約(日本語): フェライトめっき法に代表される溶液プロセスで作製したフェライト膜の透磁率の実数成分を利用した薄膜インダクタ応用や虚数成分を利用したGHz帯域ノイズ抑制体といったエレクトロクス応用に加えて、フェライト粒子を用いた磁気ハイパーサーミアやドラッグデリバリーのバイオメディカル応用について発表する。

要約(英語): Ferrite films and nano-particles were fabricated by solution processes such as ferrite-plating and hydrothermal process adding surfactant. They were applied as trimming layer of thin-film inductor and conducted noise suppressor in electronics fields and magnetic agent of hyperthermia and magnetic carrier of DDS in bio-medical field.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,105 Kバイト