磁性薄膜の強磁性共鳴と応力の評価

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG16238

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2016/12/09

タイトル(英語): Ferromagnetic resonance and stress of magnetic thin film

著者名: 森 修(東栄科学産業),薮上 信(東北学院大学),遠藤 恭(東北大学),島田 寛(東栄科学産業),内海 良一(東栄科学産業)

著者名(英語): Osamu Mori(Toei Scientific Industrial Co., Ltd),Shin Yabukami(Tohoku Gakuin University),Yasushi Endo(Tohoku University),Yutaka Shimada(Toei Scientific Industrial Co., Ltd),Ryoichi Utsumi(Toei Scientific Industrial Co., Ltd)

キーワード: 応力|強磁性共鳴|マイクロストリッププローブ|stress|ferromagnetic resonance|microstrip line type probe

要約(日本語): インピーダンス整合を考慮したマイクロストリップ型プローブを磁性膜に近接させ強磁性共鳴周波数と応力との関係を評価した。

要約(英語): We have analyzed ferromagnetic resonance of magnetic thin film and stress using microstrip line type probe.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,357 Kバイト