金属絶縁物コンポジット薄膜のLbL法アシスト複合めっきによる作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG18087

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2018/08/09

タイトル(英語): Fabrication of Metal-Insulator Composite Film by the LbL Assisted Composite Plating Method

著者名: 竹内 誠(奈良工業高等専門学校),武藤 浩行(豊橋技術科学大学),藤田 直幸(奈良工業高等専門学校)

著者名(英語): Makoto Takeuchi(National Institute of Technology, Nara College),Hiroyuki Muto(Toyohashi University of Techology),Naoyuki Fujita(National Institute of Technology, Nara College)

キーワード: ウェットプロセス|磁性微粒子|ＬｂＬ法|金属絶縁物コンポジット薄膜|電磁波吸収材料|ＬｂＬ法アシスト複合めっき|Wet Process| Magnetic fine particles|LbL method| Metal - insulator composite thin film|Electromagnetic wave absorbing material|LbL assisted composite plating method

要約(日本語): 本研究で作製する金属絶縁物コンポジット薄膜は電磁波吸収を目的としており、めっき技術と電荷付与技術であるLbL法を組み合わせた新規手法により作製している。本手法は、陰極側でエポキシを析出させると同時に、正の電荷を付与した微粒子を電気泳動により引き付け、エポキシへ埋め込んでいる。薄膜は、22vol％を超える微粒子含有率を有しており、膜内部は微粒子が分散して埋め込まれていることが確認され、80?m程度の膜厚が得られた。

要約(英語): In this study, ultrafine particles - insulator composite film as an electromagnetic wave absorbing material were prepared by a newly developed electrochemical method termed the “LbL assisted composite plating method”.By using this method, a thick film in which fine particles were dispersed in the insulator was obtained. In addition, a content of 22 vol% was obtained.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,008 Kバイト