SHF帯で一定な交流抵抗を得るためのナノグラニュラー膜積層技術の基礎検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG18156

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2018/11/27

タイトル(英語): Basic study on multilayer technique of nanogranular films for steady AC resistance at SHF band

著者名: 直江 正幸(電磁材料研究所),遠藤 恭(東北大学),室賀 翔(秋田大学)

著者名(英語): Masayuki Naoe(Research Institute for Electromagnetic Materials),Yasushi Endo(Tohoku University),Sho Muroga(Akita University)

キーワード: ナノグラニュラー膜|複素透磁率|共鳴周波数|積層膜|交流抵抗|ノイズ抑制|Nanogranular films|Complex permeability|Resonance frequency|Multilayer|AC resistance|Noise suppression

要約(日本語): ナノグラニュラー膜はナノ構造の異なる初期成長層を有するため，膜組成を変えずとも，膜厚の制御のみで大胆に異方性磁界を変化させることが可能であり，結果，高周波磁気特性の制御を可能とする．積層膜にすると，その効果が増強される．一層あたりの磁性層厚が異なる積層構造を連続的に一つの膜中に形成することで，共鳴周波数の異なる複素透磁率を重畳させて出力させることを可能とした．さらに，重畳する複数の磁気共鳴の強度バランスを制御することで，フラットな交流抵抗や複素透磁率の虚部μ”を得ることを実現した．

要約(英語): Stacked nanogranular multilayers of CoPd-CaF2/CaF2, having different thickness per layer, demonstrated a superposition of the complex permeability spectra having multiple resonance, and enabled us to obtain steady AC resistance or imaginary part of complex permeability at SHF band with controlling the strength ratio of each resonance.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 3,192 Kバイト