MEMS 応用を鑑みた Si 基板上への R -Fe- B 系厚膜磁石の作製

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG19218

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2019/12/24

タイトル(英語): Fabrication of R-Fe-B thick film magnets on Si substrates applied to MEMS

著者名: 山口 貴士(長崎大学),竹市 蕉(長崎大学),松岡 凌平(長崎大学),桃崎 瑞貴(長崎大学),高嶋 惠佑(長崎大学),山下 昂洋(長崎大学),進士 忠彦(東京工業大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Takashi Yamaguchi(Nagasaki University),Sho Takeichi(Nagasaki University),Ryohei Matsuoka(Nagasaki University),Mizuki Momosaki(Nagasaki University),Keisuke Takashima(Nagasaki University),Akihiro Yamashita(Nagasaki University),Tadahiko Shinshi(Tokyo Institute of Technology),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University)

キーワード: Ｓｉ基板|ＭＥＭＳ|ＰＬＤ法|ガラス|Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ|Ｐｒ－Ｆｅ－Ｂ|Si substrate|MEMS|PLD(Pulsed Laser Deposition)method|glass|Nd-Fe-B|Pr-Fe-B

要約(日本語): MEMS応用を鑑みた「Si基板上への厚膜磁石」の作製が要求される中，我々はPLD（Pulsed Laser Deposition）法により、等方性R(Nd or Pr)-Fe-B系厚膜磁石のSi基板への成膜や微細加工などを報告してきた。本研究では，(1)磁気特性の向上や(2)マイクロ着磁を鑑みて，ガラス下地層を挿入したSi基板への成膜を検討した。

要約(英語): Preparation of thick film magnets has been required to apply them to MEMS. We have reported the deposition of isotropic R(Nd or Pr)-Fe-B thick film magnets on Si substrates using PLD（Pulsed Laser Deposition）and their micromachining. In the report, in order to improve the magnetic properties and demonstrate the micro-magnetization, the deposition of the films on Si substrates with each glass under-layer was carried out.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 964 Kバイト