MEMS応用に向けて真空アーク蒸着法により作製したNd-Fe-B系厚膜磁石

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG20063

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス研究会

発行日: 2020/08/03

タイトル(英語): VAD (Vacuum Arc Deposition) -fabricated Nd-Fe-B thick film magnets applied to MEMS

著者名: 日笠山 航也(長崎大学),山下 昂洋(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)

著者名(英語): Koya Higasayama(Nagasaki University),Akihiro Yamashita(Nagasaki University),Takeshi Yanai(Nagasaki University),Masaki Nakano(Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga(Nagasaki University)

キーワード: 厚膜磁石|真空アーク蒸着法|Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ系磁石|ＭＥＭＳ|ヒステリシスループ|膜厚|thick film magnets|vacuum arc deposition|Nd-Fe-B magnets|MEMS|hysteresis loop|film thickness distribution

要約(日本語): これまで本研究室では真空アーク蒸着法を用い5 mm角程度の等方性Nd-Fe-B厚膜磁石の作製を検討してきたものの，(1) ヒステリシスループの2段化に伴う動作点での磁気分極の低下，(2) MEMS応用に向けての成膜面積の増加の必要性などが課題として挙げられてきた。本研究では，「試料形状を鑑みた2段化の抑制」や「基板回転機構による膜厚分布を抑制した成膜面積の増加」に対し検討したので報告する。

要約(英語): Although our laboratory have prepared isotropic a Nd-Fe-B thick film magnet on a substrate with 5 mm square, (1) improvement of magnetic properties (deterioration of magnetic properties due to the knick of a hysteresis loop) and (2) increase in the deposition area to apply the films to MEMS have been required. This contribution reports the suppression of the knick together with the reduction in film thickness distribution.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,282 Kバイト