微細化薄膜MI素子の変化率についての考察

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MAG20124,MSS20060

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 マグネティックス/【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム合同研究会

発行日: 2020/12/24

タイトル(英語): Consideration for impedance ratio of micromachined thin-film MI element

著者名: 谷井 雅(岩手大学),菊池 弘昭(岩手大学)

著者名(英語): Masaru Tanii(Iwate University),Hiroaki Kikuchi(Iwate University)

キーワード: 磁気インピーダンス|薄膜|変化率|magnetoimpedance|thin-film|change ratio

要約(日本語): 長さ1 mm以下で幅数十ミクロンと微細化した薄膜MI素子に数十%から最大で300%超の変化率を実現できているが、素子長に関しては小型化すると変化率は低下する。ここでは、バイアス磁化率の理論と反磁界分布に基づいて、得られたインピーダンス変化率について考察し、小型化した際の可能なインピーダンス変化率について検討する。

要約(英語): We obtained several tens to above 300% of impedance ratio on MI elements with length less than 1mm, however, its change ratio decreases with decreasing length. Here, we consider the changes in impedance ratio based on bias susceptibility theory and demagnetizing effect, then try to investigate a potential of large change ratio with miniaturized element.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,053 Kバイト