磁性薄膜のAFMナノ酸化における加工パラメータと反応電流

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MC06009

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門　金属・セラミックス研究会

発行日: 2006/11/29

タイトル(英語): Fabricationparameters and reaction current in AFM Nano-oxidation of Magnetic thin films

著者名: 長谷川俊祐 (横浜国立大学),蔦田 泰之(横浜国立大学),山田 努(横浜国立大学),竹村 泰司(横浜国立大学),白樫 淳一(東京農工大学)

著者名(英語): Shunsuki Hasagawa(Yokohama National University),Yasuyuki Shimada(Yokohama National University),Tsutomu Yamada(Yokohama National University),Yasushi Takemura(Yokohama National University),Jun-ichi Shirakashi(Tokyo University of Agriculture and Technology)

キーワード: ナノ構造磁性体|強磁性トンネル接合|原子間力顕微鏡(AFM)|被覆酸化膜層|

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 912 Kバイト