Bi,Pb-2223薄膜の熱処理中の微細組織形成過程

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MC12009

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 金属・セラミックス研究会

発行日: 2012/12/06

タイトル(英語): Microstructural Evolution of Bi,Pb-2223 Films During Heat-Treatment

著者名: 梶原 貴人(九州大学大学院),嶋田 雄介(九州大学大学院),波多 聰(九州大学),池田 賢一(九州大学),中島 英治(九州大学),土井 俊哉(京都大学),松本 明善(物質・材料研究機構),北口 仁(物質・材料研究機構)

著者名(英語): Kajihara Takato(Kyushu university),Shimada Yusuke(Kyushu university),Hata Satoshi(Kyushu university),Ikeda Ken-ichi(Kyushu university),Nakashima Hideharu(Kyushu university),Doi Toshiya(Kyoto university),Matsumoto Akiyoshi(National Institute for Materials Science),Kitaguchi Hitoshi(National Institute for Materials Science)

キーワード: Ｂｉ、Ｐｂ－２２３３|電子顕微鏡法|非超伝導相|薄膜|組織形成|スパッタリング法|Bi|Pb-2223|Electron microscopy|Non-superconducting phase|Thin film|Microstructural evolution|Sputtering method

要約(日本語): 我々のグループではBi,Pb-2223超伝導体の生成プロセスや線材内での電流経路等の基礎的な知見を得るために薄膜の研究を行っている。本研究では、スパッタ法で作製したBi,Pb-2223前駆体薄膜に熱処理を施し、Bi,Pb-2223薄膜を作製した。電子顕微鏡で薄膜の微細組織を観察することで、Bi,Pb-2223及び非超伝導不純物相の組織形成過程を考察した。

要約(英語): We study Bi,Pb-2223 thin film to understand formation mechanism and current pathway in Bi,Pb-2223 wire. In this study, we fabricated Bi,Pb-2223 thin films by annealing Bi,Pb-2223 precursor films fabricated by a sputtering method. We examined microstructure evolution of Bi,Pb-2223 and non-superconducting phases by observing the films using electron microscopy.

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,205 Kバイト