電極構造･弾性体のレイヤー分離による静電櫛歯型XYステージの高密度化

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS06011

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門　マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2006/05/15

タイトル(英語): A Comb-Driven XY-Stage with Topological Layer Switch Architecture for High-Density Arrayed Systems

著者名: 高橋 一浩(東京大学,神奈川科学技術アカデミー),年吉 洋(東京大学,神奈川科学技術アカデミー),三田 信(宇宙航空研究開発機構),権鎬楠 (神奈川科学技術アカデミー)

著者名(英語): Kazuhiro Takahashi(IIS,University of Tokyo),Hiroshi Toshiyashi(IIS,University of Tokyo),Makoto Mita(Japan Aerospace Exploration Agency),Ho Nam Kwon (Kanagawa Academy of Science and Technology)

キーワード: 静電マイクロアクチュエータ|櫛歯型アクチュエータ|XY-ステージ|レイヤー分離

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,679 Kバイト