位相シフトマスクを利用した立体サンプルへの微細パターン露光法

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS06019

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門　マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2006/05/15

タイトル(英語): Exposure method for three-dimensional samples using phase shift mask

著者名: 佐々木 実(東北大学),陳俊中(東北大学),エドウィン(東北大学),羽根一博(東北大学)

著者名(英語): Minoru Sasaki|Tanjyunjyon Edwin|Kazuhiro Hane

キーワード: 位相シフトマスク|三次元リソグラフィ|スプレーコーティング

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,421 Kバイト