陽極化成とp＋＋エッチストップとを利用したシリコン深堀ウェットエッチング

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS07004

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門　マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2007/07/03

タイトル(英語): Silicon deep wet etch using combination of anodization and p++ etch stop

著者名: 大野 武雄(東北大学),田中 秀治(東北大学),江刺 正喜(東北大学)

著者名(英語): Takeo Ohno(Tohoku University),Shuji Tanaka(Tohoku University),Masayoshi Esashi(Tohoku University)

キーワード: 陽極化成|ウェットエッチング|マクロポーラスシリコン|エッチストップ技術|バルクマイクロマシニング|anodization|wet etching|macroporous silicon|etch stop technique|bulk micromachining

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 766 Kバイト