Fast Marching Methodを適用した移動マスクUV露光用加工形状シミュレーション技術

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS07005

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門　マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2007/07/03

タイトル(英語): Development profile simulation tool adopting Fast Marching Method for the Moving-mask UV lithography method

著者名: 平井義和(京都大学),稲本好輝(京都大学),菅野公二(京都大学),土屋智由(京都大学),田畑修(京都大学)

著者名(英語): Yoshikazu Hirai|Yoshiteru Inamoto|Toshiyuki Tsuchiya|Osamu Tabata

キーワード: 三次元微細加工技術|厚膜レジスト|紫外線リソグラフィ|シミュレーション技術|fast marching method|three-dimensional fabrication|thick photoresist|UV lithography|process simulation|fast marching method

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 746 Kバイト