ポジ型厚膜レジストの溶解速度の露光波長依存性と３次元加工への応用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS08001

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門　マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2008/06/12

タイトル(英語): The effect of wavelength dependency on dissolution rate of positive thick photoresist and its application to 3-dimensional microstructuring

著者名: 平井 義和(京都大学),菅野 公二(京都大学),土屋 智由(京都大学),田畑 修(京都大学)

著者名(英語): Yoshikazu Hirai(Kyoto University),Koji Sugano(Kyoto University),Toshiyuki Tsuchiya(Kyoto University),Osamu Tabata(Kyoto University)

キーワード: 3次元微細加工技術|厚膜レジスト|UVリソグラフィ|シミュレーション技術|Three-dimensional fabrication|Thick photoresist|UV lithography|Process simulation

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 923 Kバイト