超臨界流体を用いたSiO2製膜の開発

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS09011

グループ名: 【E】センサ･マイクロマシン部門　マイクロマシン･センサシステム研究会

発行日: 2009/07/23

タイトル(英語): Development of SiO2 deposition process using supercritical fluid

著者名: 山田 英雄(BEANS研究所),百瀬 健(東京大学),浅海 一志(デンソー),川原 伸章(デンソー),杉山 正和(東京大学),霜垣 幸浩(東京大学)

著者名(英語): Hideo Yamada(BEANS Laboratory),Takeshi Momose(The University of Tokyo),Kazushi Asami(DENSO CORPORATION),Nobuaki Kawahara(DENSO CORPORATION),Masakazu Sugiyama(The University of Tokyo),Yukihiro Shimogaki(The University of Tokyo)

キーワード: 超臨界流体|SiO2製膜|TEOS|高アスペクト比|埋め込み技術|supercritical fluid|SiO2 deposition|TEOS|high aspect ratio|gap filling technique

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 735 Kバイト