MEMS応用に向けた超臨界流体を用いた金属薄膜形成技術の開発

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS10001

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2010/06/17

タイトル(英語): Metal thin film formation technology using supercritical fluid for MEMS application

著者名: 百瀬 健(東京大学),上嶋 健嗣(東京大学),山田 英雄(BEANS研究所),杉山 正和(東京大学),霜垣 幸浩(東京大学)

著者名(英語): Takeshi Momose(The University of Tokyo),Takeshi Uejima(The University of Tokyo),Hideo Yamada(BEANS Laboratory),Masakazu Sugiyama(The University of Tokyo),Yukihiro Shimogaki(The University of Tokyo)

キーワード: 超臨界流体|製膜|金属薄膜|supercritical fluid|deposition|metal film

要約(日本語): MEMSやULSIでは，微細かつ複雑な構造を有する3次元構造体への製膜や埋め込みが求められている。これに対し，我々は，超臨界流体と呼ばれる高温高圧流体中において金属錯体を反応析出させ，金属薄膜を形成する技術の検討を進めている。本手法は，微細構造に対し高い埋め込み性・回り込み性を有しており，高アスペクト比微細構造体への薄膜形成技術として期待できる。本講演では，その埋め込み性や下地依存性に関し報告する。

原稿種別: 日本語

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