合成石英のフェムト秒レーザーアシスト・ドライエッチング＝ナノ周期構造の選択的エッチング＝

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS10006

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2010/06/17

タイトル(英語): Dry Etching Assisted by Femtosecond Laser Irradiation in Fused Silica= Selective Etching of Nanostructure=

著者名: 額賀 理(BEANSプロジェクト),山本 敏(フジクラ),久保田 智広(東京大学,BEANSプロジェクト),杉山 正和(東京大学,BEANSプロジェクト),寒川 誠二(東北大学,BEANSプロジェクト)

著者名(英語): Nukaga Osamu|Yamamoto Satoshi|Kubota Tomohiro|Sugiyama Masakazu|Samukawa Seiji

キーワード: フェムト秒レーザー|ドライエッチング|石英|femtosecond laser|dry etching|silica

要約(日本語): フェムト秒レーザーをアブレーション閾値以下で集光照射すると、基板表面では偏波に沿って数百ナノオーダーの周期凹凸が形成されることが知られている。加工対象として石英を用いた場合、この周期凹凸はドライエッチングを行うことで、周期凹凸のアスペクトをさらに高くすることが可能となる。さらにはプロセスチャンバー内の圧力制御により、周期凹凸の形状を制御することが可能となることが確認された。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 705 Kバイト