近赤外分光用ラミナー型グレーティングの試作と電磁力による可動化

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS10015

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2010/06/18

タイトル(英語): Fabrication of Near Infrared Laminar Grating and its Actuation with Electromagnetic Force

著者名: 渡部 善幸(山形県工業技術センター),阿部 泰(山形県工業技術センター),矢作 徹(山形県工業技術センター),岩松 新之輔(山形県工業技術センター),小林 誠也(山形県工業技術センター),今野 俊介(山形県工業技術センター),高橋 義行(山形県工業技術センター),佐藤 敏幸(山形県工業技術センター)

著者名(英語): Watanabe Yoshiyuki(Yamagata Research Institute of Technology),Abe Yutaka(Yamagata Research Institute of Technology),Yahagi Toru(Yamagata Research Institute of Technology),Iwamatsu Shinnosuke(Yamagata Research Institute of Technology),Kobayashi Seiya(Yamagata Research Institute of Technology),Konno Shunsuke(Yamagata Research Institute of Technology),Takahashi Yoshiyuki(Yamagata Research Institute of Technology),Sato Toshiyuki(Yamagata Research Institute of Technology)

キーワード: 近赤外分光|電磁駆動|ＭＥＭＳグレーティング|低コヒーレント光干渉|ＵＶレジストのＥＢリソグラフィー|２軸傾斜|near infrared spectroscopy|electromagetic driving|MEMS-grating|Low coherent interferometry|EB lithography of UV photoresist|Bi-axis tilting

要約(日本語): 低コヒーレント光干渉法における近赤外分光用グレーティング(GR)の形成法と、電磁力による可動化について検討した。UVレジストのEB露光を検討した結果、ライン幅0.25μm、ピッチ0.6μmまで形成可能であり、作製したラミナー型GRによる回折角は理論値と1°以下で一致していた。また、電磁駆動型MEMS-GRを試作し、波長帯域1500-1600nmの近赤外分光に必要な傾斜角が得られた

要約(英語): We have investigated fabrication of near infrared laminar grating, and its actuation with electromagnetic force. The laminar gratings of 0.6 2.0μm pitches were fabricated successfully by EB lithography of UV photoresist and dry etching of silicon. Furthermore, we fabricated electromagnetically driven MEMS-grating, and achieved enough tilting angle for spectroscopy in range of 1500-1600nm.

原稿種別: 日本語

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