Al2O3-RuOxハイブリッド膜の原子層堆積プロセスの開発とMEMSマイクロチャネルプレートへの応用可能性の検討

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS12002

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2012/06/11

タイトル(英語): Development of Atomic Layer Deposition Process for Al2O3-RuOx Hybrid Film and Investigation of Its Application Potentiality to MEMS Microchannel Plate

著者名: 西野 仁(東北大学),吉田 慎哉(東北大学),熊野 勝文(東北大学),江刺 正喜(東北大学)

著者名(英語): Nishino Hitoshi(Tohoku University),Yoshida Shinya(Tohoku University),Kumano Masafumi(Tohoku University),Esashi Masayoshi(Tohoku University)

キーワード: ＭＥＭＳ|マイクロチャネルプレート|原子層堆積|ハイブリッド膜

要約(日本語): 安価かつ高性能のマイクロチャネルプレート(MCP)の実現を目的として、本研究では、シリコン微細加工技術と原子層堆積(ALD)を用いたMCPの一括加工プロセスの開発を行った。MCPの高抵抗膜および二次電子増倍膜として、Al2O3-RuOxハイブリッド膜のALDプロセスの開発をし、Al2O3とRuOxの組成比を制御することで、薄膜の抵抗率を変調することを試みた。また、シリコンの深堀エッチングと熱酸化を組み合わせて、高アスペクト比のガラス細管基板を試作した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,449 Kバイト