赤外線用マイクロレンズアレイ製作におけるグレースケールリソグラフィプロセスの改善

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: MSS12005

グループ名: 【E】センサ・マイクロマシン部門 マイクロマシン・センサシステム研究会

発行日: 2012/06/11

タイトル(英語): Improvement in gray-scale lithography process for fabrication of infrared microlens arrays

著者名: 一色 淳(立命館大学大学院),山崎 陵(立命館大学大学院),木股 雅章(立命館大学)

著者名(英語): Isshiki Jun(Ritsumeikan University Graduate School),Yamazaki Ryo(Ritsumeikan University Graduate School),Kimata Masafumi(Ritsumeikan University )

キーワード: 赤外線センサ|非冷却|マイクロレンズ|グレースケールリソグラフィ|エッチバック|infrared sensor|uncooled|microlens|gray-scal lithography|etch back

要約(日本語): 赤外線アレイセンサ用のシリコンマイクロレンズアレイの作製において、これまで問題となっていた設計形状と製作形状の差を解消するグレースケールリソグラフィ技術を開発した。開発した技術では、グレースケールマスクの露光量に対する透過率の線形性が高い領域のみを利用することにより、設計形状を忠実に再現している。500μmピッチのマイクロレンズアレイを試作し、開発した技術の有効性を確認している。

要約(英語): This paper describes improvement in a gray-scale lithography technology to fabricate silicon microlens arrays for infrared array sensors. Using a linear region in the sensitivity curve for the gray-scale lithography, we improved the shape of microlens. We experimentally fabricated a microlens array with a 500μm pitch and confirmed enhancement in sensitivity of a thermopile uncooled infrared array sensor with it.

原稿種別: 日本語

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